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TLC-2H22

半导体雷射加工设备

TLC-2H22

采用新型高功率雷射源与高速扫描头系统,大幅提升生产效能



高刚性工作台与东台控制系统结合,床台定位精度达±3μm以下,钻孔精度达±15μm以下



新图像处理技术增加噪声处理与对比强度功能,提升内层靶影像辨识率,建立稳定烧靶制程技术



高峰值功率雷射源与独特光路系统设计,提升铜箔直接钻孔质量,实现黑化铜箔与棕化铜板板直接钻孔加工




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规格参数

项目 TLC-2H22
加工范围 (560x620)x2 panels mm
移动速度 50 m/min
精度 ±3 μm
雷射型式 9.4 μm CO2 Laser
最大平均功率 350 W
激光脉冲频率 1,000~10,000 Hz
脉冲带宽 2~100 μs
扫瞄范围 70x70 mm
精度 ±10 μm

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